真空鍍膜

真空鍍膜主要利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,　靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。

新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow

光學(xué)鍍膜

無論是無機(jī)材料還是有機(jī)材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫(氧化硅)的摩擦都會(huì)造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機(jī)材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細(xì)小，戴鏡者不容易察覺;另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會(huì)影響視力。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區(qū)別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測(cè)試不出來了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測(cè)試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測(cè)試儀即可。

最早的是光控測(cè)試，現(xiàn)在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來測(cè)試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。