真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。為了讓大家更詳細的了解真空鍍膜的應用，今天小編詳細為大家介紹真空鍍膜應用的主要幾種方法，希望對大家有用！

     真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：

真空蒸鍍

其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

離子鍍膜

即干式螺桿真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

真空卷繞鍍膜

真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

上述四種都屬于物理氣相沉積技術應用（PVD）。

接下來是化學氣相沉積（CVD）。它是以化學反應的方式制作薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反應氣體通到基片上并被吸附，在基片上產生化學反應形成核，隨后反應生成物脫離基片表面不斷擴散形成薄膜。

束流沉積鍍，結合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術的離子表面復合處理技術，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術。