pvd真空電鍍的原理主要是物理氣相沉積，其是當(dāng)前國(guó)際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)的表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基材上。

     pvd真空電鍍具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn)，特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。 采用全球先進(jìn)的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，及在此基礎(chǔ)之上與國(guó)際專(zhuān)家的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗(yàn)，為客戶(hù)提供適合的涂層加工方案。

    pvd真空電鍍抗氧化，抗腐蝕，耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定，抗酸。手機(jī)外殼PVD鍍膜抵抗力，鍍膜外殼容易清除油漆和指紋。在強(qiáng)烈的陽(yáng)光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落。高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷?？慑儾牧蠌V泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。