什么是離子鍍?真空鍍膜中離子鍍和普通離子鍍有什么卻別呢?下面小編就來介紹下真空鍍膜加工的分類之離子鍍。

蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。

一種離子鍍系統(tǒng)是將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。

電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百～幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。